在氧化层中大部分的电荷效应是直接或间接地同热氧化的工艺过程有关的。在800—1250~c的温度范围内，用干氧、湿氧或水汽进行的热氧化过程有三个持续的阶段，首先是环境气氛中的氧进入到已生成的氧化层中，然后氧通过二氧化硅向内部扩散，金属钝化，当它到达si02-si界面时就同硅发生反应，形成新的二氧化硅。这样不断发生着氧的进入—扩散—反应过程，钝化剂，使靠近界面的硅不断转化为二氧化硅，氧化层就以一定的速率向硅片内部生长。
钝化原理其钝化的机理可用薄膜理论来解释，即认为钝化是由于金属与氧化性物质作用，作用时在金属表面生成 一种非常薄的、致密的、覆盖性能---的、牢固地吸附在金属表面上的钝化膜。这层膜成独立相存在，通常是氧化金属的化合物。它起着把金属与腐蚀介质完全隔开的作用，钝化处理，防止金属与腐蚀介质接触，钝化，从而使金属基本停止溶解形成钝态达到防腐蚀的作用。
如浓hno3、浓h2so4、hclo3、k2cr2o7、kmno4等氧化剂都可使金属钝化。金属钝化后，其电极电势向正方向移动，使其失去了原有的特性，如钝化了的铁在铜盐中不能将铜置换出。此外，用电化学方法也可使金属钝化，如将fe置于h2so4溶液中作为阳极，用外加电流使阳极极化，采用一定仪器使铁电位升高一定程度，fe就钝化了。
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